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集成電路布圖設計專有權

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1958年9月12日,這是一個偉大時刻的開始,美國德州儀器公司工程師杰克·基爾比發(fā)明了世界上第一個集成電路(IC)。這個裝置揭開了人類20世紀電子革命的序幕,2000年他因此獲得了諾貝爾物理學獎。

科技總是在一個個夢想的驅動下前進。基爾比利用多數(shù)同事放假無人打擾的兩周思考難題。就在貝爾實驗室慶祝發(fā)明電晶體十周年后一個月,基爾比靈光涌現(xiàn),提出利用單獨一片矽作出完整的電路,如此可把電路縮到極小。自此,集成電路逐步把我們帶入了美妙無比的數(shù)字信息時代。

1979年:Intel公司推出5兆赫茲(運算速度每秒500萬次)8088微處理器,IBM公司推出全球第一臺個人電腦(PC)。

1988年:16兆DRAM內(nèi)存問世,1平方厘米大小的硅片上可以集成有3500萬個晶體管,標志著進入超大規(guī)模集成電路階段。

1999年:奔騰III電腦問世,運算速度達到450兆赫茲(即每秒4.5億次),先后采用0.25微米、0.18微米工藝,1微米即一百萬分之一米。

2009年:Intel公司酷睿1系列全新推出,采用了32納米工藝。納米,也稱毫微米,即十億分之一米、一百萬分之一毫米,如同毫米、厘米、分米和米一樣是長度的度量單位,其大小相當于原子的4倍,比單個細菌的長度還要小。

2012年,英特爾計劃在美國俄勒岡、亞利桑那和愛爾蘭的工廠中部署14納米芯片生產(chǎn)線,還開展了7納米和5納米的芯片研發(fā);韓國三星也由20納米向15納米進軍,成為芯片一霸;臺灣的臺積電也開始20納米芯片批量生產(chǎn)。

現(xiàn)在,人類的電腦、手機、互聯(lián)網(wǎng)、電視、照相機、DVD及所有電子產(chǎn)品、高端設備的核心控制部件即所謂的芯片,都離不開集成電路。其不斷完善進步的技術,各領風騷的功能,主要依賴于集成電路布圖設計。它與專利權、著作權等一樣,屬于知識產(chǎn)權。

集成電路布圖設計是指集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互聯(lián)線路的三維配置,或者為制造集成電路而準備的上述三維配置。通俗地說,它就是確定用以制造集成電路的電子元件在一個傳導材料中的幾何圖形排列和連接的布局設計。

集成電路布圖設計實質上是一種圖形設計,但它并非是工業(yè)品外觀設計,不能適用專利法保護。因為,從專利法的保護對象來看,針對產(chǎn)品、方法或其改進所提出的新的技術方案要求具有創(chuàng)造性、新穎性和實用性。這一點對集成電路布圖設計而言往往難以做到。從專利的取得程序來看,專利申請審批的時間過長,成本較高,不利于技術的推廣和應用。集成電路布圖設計雖然在形態(tài)上是一種圖形設計,但它既不是一定思想的表達形式,也不具備藝術性,因而不在作品之列,不能采用著作權法加以保護。而且集成電路布圖設計更新?lián)Q代較快,若用著作權法來保護布圖設計,則會因著作權的保護期過長而不利于集成電路事業(yè)的發(fā)展。由于現(xiàn)有專利法、著作權法對集成電路布圖設計無法給予有效的保護,世界許多國家就通過單行立法,確認布圖設計的專有權,即給予知識產(chǎn)權保護。美國是最先對布圖設計進行立法保護的國家,隨后,日本、瑞典、英國、德國等國也相繼制定了自己的布圖設計保護法。

1989年5月,世界知識產(chǎn)權組織通過了《關于集成電路的知識產(chǎn)權條約》。此外,《知識產(chǎn)權協(xié)定》專節(jié)規(guī)定了集成電路布圖設計問題,其締約方按照上述公約的有關規(guī)定對布圖設計提供保護。

我國的《集成電路布圖設計保護條例》(以下簡稱《條例》)、《集成電路布圖設計保護條例實施細則》自2001年10月1日起施行。主要內(nèi)容簡介如下:

一、集成電路布圖設計專有權的取得

1.集成電路布圖設計權的主體。

《條例》第三條規(guī)定,中國自然人、法人或者其他組織創(chuàng)作的布圖設計,依照本條例享有布圖設計權;外國人創(chuàng)作的布圖設計首先在中國境內(nèi)投入商業(yè)利用的,依照本條例享有布圖設計權;外國人創(chuàng)作的布圖設計,其創(chuàng)作者所屬國同中國簽訂有關布圖設計保護協(xié)議或共同參加國際條約的,依照本條例享有布圖設計權。

2.客體條件。

《條例》第四條規(guī)定,受保護的布圖設計應當具有獨創(chuàng)性,即該布圖設計是創(chuàng)作者自己的智力勞動成果,并且在其創(chuàng)作時該布圖設計在布圖設計創(chuàng)作者和集成電路制造者中不是公認的常規(guī)設計。對集成電路的定義僅限于芯片(IC芯片)的布圖設計。電路板(PCB板)設計不屬于《條例》保護的范圍。

3.獲得集成電路布圖設計專有權的方式和程序。

目前,世界各國主要采取三種取得方式:自然取得,登記取得,使用與登記取得。大多數(shù)國家采取登記取得制,我國也采取登記制度。

集成電路布圖設計專有權經(jīng)國家知識產(chǎn)權局登記產(chǎn)生。取得的程序:

(1)申請:向國家知識產(chǎn)權局提交申請文件。

(2)初審。

(3)登記并公告。

(4)對駁回申請的復審。

(5)登記的撤銷。申請人辦理集成電路布圖設計登記時必須提交的文件:

①集成電路布圖設計登記申請表一份(相關表格可登錄國家知識產(chǎn)權局網(wǎng)站下載)。

②圖樣一份。

③圖樣的目錄一份。

可能需要提交的文件:

①布圖設計在申請日之前已投入商業(yè)利用的,申請登記時應當提交4件樣品。

②申請人委托代理機構的,還應提交集成電路布圖設計登記代理委托書。此外,申請人還可以提交包含該布圖設計圖樣電子件的光盤。

二、集成電路布圖設計專有權的內(nèi)容及其行使

1.集成電路布圖設計專有權的內(nèi)容。

《條例》第七條:布圖設計權利人享有下列專有權:

(1)對受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分進行復制。

(2)將受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品投入商業(yè)利用。

2.布圖設計權的行使。

布圖設計權利人可以將其專有權轉讓或者許可他人使用。轉讓布圖設計權的,當事人應當訂立書面合同,并向國務院知識產(chǎn)權部門登記并公告。許可使用的當事人應當訂立書面合同。

三、集成電路布圖設計權的保護

布圖設計專有權經(jīng)國務院知識產(chǎn)權行政部門登記產(chǎn)生。未經(jīng)登記的布圖設計不受《條例》保護。

1.保護期限。

布圖設計權的保護期限為10年,自布圖設計登記申請之日或在世界任何地方首次投入商業(yè)使用之日計算,以較前日期為準。但是,無論是否登記或投入商業(yè)利用,布圖設計自創(chuàng)作完成之日起15年后,不再受到保護。

2.侵權行為。

《條例》第三十條:除本條例另有規(guī)定的外,未經(jīng)布圖設計權利人許可,有下列行為之一的,行為人必須立即停止侵權行為,并承擔賠償責任:

(1)復制受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分的。

(2)為商業(yè)目的進口、銷售或者以其他方式提供受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品的。

3.侵犯布圖設計專有權的賠償。

為侵權人所獲得的利益或者被侵權人所受到的損失,包括被侵權人為制止侵權行為所支付的合理開支。

2014年9月23日,上海市高級人民法院就上海首例集成電路布圖設計糾紛案作出終審判決,駁回上訴人鉅泉光電科技(上海)股份有限公司、深圳市銳能微科技有限公司的上訴請求,維持原判。根據(jù)原判,銳能公司應立即停止侵害鉅泉公司享有的ATT7021AU集成電路布圖設計專有權,并賠償鉅泉公司經(jīng)濟損失320萬元。


標簽:白山 金華 景德鎮(zhèn) 大興安嶺 大理 錦州 定西 賀州

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