光刻機，這是個中國國產自研技術的軟肋，而美國最近對華為中興的制裁，已經進入白熱化，顯然他們深知我們的軟肋——缺乏芯片的高精密制造工藝。

光刻機通訊，目前最新進的只有荷蘭的ASML公司的EUV光刻機，已經可以達到5nm工藝，而我們中國目前來說，大批量做出14nm工藝的芯片已然是一項挑戰。差距很明顯了，我們要如何超越呢？

目前看來，光靠國產自研不是說沒有可能研究出先進的光刻機，而是沒有足夠時間給我們去研究，要知道歐洲完全研究出這種光刻機耗費

近200年，那可是兩個世紀。而我們如果自己研發出一臺EUV光刻機，可以制造5納米、7納米工藝的芯片，即使不需要200年，也至少得花上個10年到20年不等，甚至更久。

如何做出先進光刻機

這應該是目前所有人都在思考的問題，包括華為，包括中芯。

任正非想到的方法是引入國外歐美尖端人才，這是最直接的，畢竟技術本身就是附著在這些尖端人才身上的通訊，一旦引入，無疑是走上捷徑，即使耗費巨資，如果真能把有用之才引入，那也是值得的。

但是懂光刻機制造的人才本來就是極為稀少的，目前看來主要存在于ASML、三星、臺積電、英特爾。后面三個公司是ASML的股東，也是代工芯片的巨頭，尤其是臺積電，是目前給華為和蘋果等手機大廠供貨的最大代工企業。這些人才無疑都會被他們給藏起來，或者即使有機會接觸到，美國也會把這些人給拖住。

如果這條路走不通，我們該怎么辦？

現在國家確實出手了，給國內半導體界崛起的中芯國際扶持，從最近中芯在香港股市的暴漲就可知道，這是國家隊出手了，扶持國內具備自研能力的企業，是目前完全可以做的。但是難受的是，中芯必然沒有臺積電這種老牌工廠強大，中芯目前能做出14nm的工藝已經是值得褒獎，我們總不能壓著中芯說你得馬上給我造出5nm的光刻機。

我覺得如果國家能把國內現有的通信、電子、制造界的各大高校的科研頂尖團隊進行一個整合，斥資組建一個強大的科研組，基于國內現有的最高工藝，去協助芯片界攻克難關。